Vláknová pole pro přesná optická rozhraní
Moderní technologie v oblasti integrované fotoniky, kvantových systémů a vědecké instrumentace vyžadují přesný a stabilní přenos světla. V praxi to znamená jediné: optické rozhraní musí být navrženo s maximální přesností a zároveň musí spolehlivě fungovat v reálných provozních podmínkách.
Společnost SQS vyvíjí a vyrábí vysoce přesná vláknová pole, včetně provedení určených pro prostředí ultravysokého vakua (UHV). Každé řešení je navrhováno s ohledem na konkrétní aplikaci – od fotonických integrovaných obvodů až po specializované laboratorní systémy.
Vláknová pole přizpůsobená vaší aplikaci
SQS umožňuje konfiguraci podle požadovaného počtu kanálů, rozteče vláken, typu použitých vláken, geometrie uspořádání, úpravy čel (např. úhlu broušení), mechanických rozměrů i konektorového rozhraní.
Zvláštní roli hraje přesnost polohy jednotlivých vláken v poli.
Při výrobě vysoce přesných vláknových polí dosahuje firma SQS typicky přesnosti polohy vláken přibližně 0,5 µm, v závislosti na konkrétním návrhu a požadavcích aplikace.
Konstrukce a materiály pro ultravysoké vakuum
Aplikace v prostředí ultravysokého vakua kladou na optické komponenty specifické nároky. Klíčová je volba materiálů, lepidel a výrobních procesů.
Firma SQS vyrábí UHV kompatibilní vláknová pole s využitím procesů vhodných pro ultravysoké vakuum a lepidel s nízkým odplyněním.
Vláknová pole jsou čištěna a balena do dvojitého ochranného balení v čistém prostředí s laminárním prouděním.
Tento přístup je důležitý zejména pro systémy, kde i nepatrná kontaminace částicemi může negativně ovlivnit čistotu prostředí, stabilitu a dlouhodobou spolehlivost optického rozhraní.
Kromě UHV prostředí nacházejí vláknová pole firmy SQS uplatnění také v systémech pracujících při kryogenních teplotách a v dalších náročných laboratorních i průmyslových aplikacích.
Praktické využití v kvantových experimentech
Význam UHV kompatibilních vláknových polí firmy SQS dokládá i výzkum publikovaný v roce 2026 týmy z University of California, Berkeley a University of California, Los Angeles (https://arxiv.org/pdf/2607.25062)
V rámci studie byl vyvinut hybridní 2D a 3D fotonický integrovaný obvod pro širokopásmové optické řízení zachycených iontů. Systém pracoval v rozsahu vlnových délek 405 až 880 nm.
V metodice experimentu jsou přímo uvedeny UHV kompatibilní jednotky vláknových polí od SQS Vláknová optika, které byly použity jako součást optického rozhraní mezi externími vlákny a fotonickým integrovaným čipem.
Celé zapouzdřené sestavy prošly čtyřmi vakuovými bake-out cykly při teplotách až 125 °C, přičemž autoři uvádějí pouze minimální změny v optických ztrátách. Vakuové systémy během experimentů dosahovaly tlaku pod 1 × 10⁻¹⁰ Torr.
Je důležité zdůraznit, že tyto hodnoty popisují konkrétní experimentální prostředí, nikoliv obecné specifikace produktů. Studie však jasně ukazuje, že UHV kompatibilní vláknová pole SQS jsou vhodná pro použití v pokročilých kvantových a fotonických systémech.
Řešení na míru pro náročné optické systémy
Vyvíjíte optické rozhraní pro fotonický integrovaný obvod, UHV systém, kvantovou technologii nebo jinou aplikaci s vysokými nároky na přesnost a stabilitu?
Kontaktujte nás a společně navrhneme vláknové pole optimalizované přesně pro vaše optické a mechanické rozhraní.
